4、集成电路制造工艺中，以下不是热氧化方法的是： 。A．干氧氧化B．湿氧氧化C．离子氧化D．水蒸汽氧化

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填空题集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

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判断题光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A 对B 错

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填空题集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。

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问答题热氧化工艺有哪些？

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判断题双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A 对B 错

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问答题集成电路制造工艺中，主要有哪两种隔离工艺？目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺，为什么？

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问答题列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？

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